SPP 1119:  Inorganic Materials through Vapor-Phase Synthesis: Interdisciplinary Concepts for Development, Understanding and Controlling of CVD Processes

• Subject Area: Thermal Engineering/Process Engineering ; Chemistry ; Thermal Engineering/Process Engineering
• Term: from 2001 to 2007
• Project identifier: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Project number 5471190

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• DFG Programme: Priority Programmes

Projects

• Alternative MOCVD-Precursoren zur Abscheidung von AlSb, GaSb und InSb (Applicant Wandelt, Klaus )
• Alternative MOVCD-Precursoren zur Abscheidung von AlSb, GaSb und InSb (Applicants Kohse-Höinghaus, Katharina ;  Schulz, Stephan ;  Wandelt, Klaus )
• Aufeinander abgestimmte intramolekular adduktstabilisierte Alkoxid- und Amid-Prekursoren für MOCVD von oxidischen ferroelektrischen Schichtstrukturen (Applicant Devi, Anjana )
• Aufeinander abgestimmte intramolekular adduktstabilisierte Alkoxid- und Amid-Prekursoren für MOCVD von oxidischen ferroelektrischen Schichtstrukturen (Applicant Waser, Rainer )
• Auswirkungen unterschiedlicher CVD/CVS-Prozesspfade zur Herstellung Metall-oxidischer Nanokompositpartikeln auf deren katalytische Eigenschaften (Applicants Kasper, Gerhard ;  Muhler, Martin )
• Auswirkungen unterschiedlicher CVD/CVS-Prozeßpfade zur Herstellung Metall-oxidischer Nanokompositpartikeln auf deren katalytische Eigenschaften (Applicant Muhler, Martin )
• Chemische Gasphasenabscheidung dünner Silberschichten aus metallorganischen Precursoren (Applicant Burte, Edmund P. )
• Chemische Gasphasenabscheidung dünner Silberschichten aus metallorganischen Precursoren (Applicant Kohse-Höinghaus, Katharina )
• Chemische Gasphasenabscheidung dünner Silberschichten aus metallorganischen Precursoren (Applicant Lang, Heinrich )
• CVD-Prozesse mit neuartigen metallorganischen Precursoren zur Herstellung von hoch-Epsilon Gatedielektrika und metallischen Gatelektroden zukünftiger CMOS-Generation (Applicant Ryssel, Heiner )
• CVD-Prozesse mit neuartigen metallorganischen Precursoren zur Herstellung von hoch-Epsilon Gatedielektrika und metallischen Gatelektroden zukünftiger CMOS-Generation (Applicant Herrmann, Wolfgang A. )
• CVS von nanokristallinen Metalloxid-Schichten mittels Pyrolyse von molekularen Metallsiloxiden (Applicant Kruis, Frank Einar )
• CVS von nanokristallinen Metalloxid-Schichten mittels Pyrolyse von molekularen Metallsiloxiden (Applicants Drieß, Matthias ;  Kruis, Frank Einar )
• Koordinatorfonds im Rahmen des Schwerpunktprogramms "Anorganische Materialien durch Gasphasensynthese: Interdisziplinäre Ansätze zu Entwicklung, Verständnis und Kontrolle von CVD-Verfahren" (Applicant Fischer, Roland A. )
• Maßgeschneiderte Metallkomplexe für die Darstellung von Metall- und Metalloxidfilmen (Applicants Popovska-Leipertz, Nadejda ;  Zenneck, Ulrich )
• Maßgeschneiderte Metallkomplexe für die Darstellung von Metall- und Metalloxidfilmen (Applicant Emig, Gerhard )
• Molekulare Mechanismen der Oberflächenreaktion von Palladium- und Zirkonpräkursoren auf wohldefinierten Oxidsubstraten (Applicant Wöll, Christof )
• MOVPE von Gruppe-III-Nitriden mit intramolekular koordinierten Prekursoren. Mechanistische Studien und Modellierung der Prozesse. (Applicant Müller, Jens )
• MOVPE von Gruppe-III-Nitriden mit intramolekular koordinierten Prekursoren. Mechanistische Studien und Modellierung der Prozesse. (Applicant Fischer, Roland A. )
• MOVPE von Gruppe-III-Nitriden mit intramolekular koordinierten Prekursoren. Mechanistische Studien und Modellierung der Prozesse. (Applicant Brenner, Gunther )
• MOVPE von Gruppe-III-Nitriden mit intramolekular koordinierten Prekursoren. Mechanistische Studien und Modellierung der Prozesse. (Applicants Brenner, Gunther ;  Schmid, Rochus )
• PACVD-Synthese und Charakterisierung von Si/(B)/C/N-Hartstoffschichten für tribologische Anwendungen (Applicant Kroke, Edwin )
• PACVD-Synthese und Charakterisierung von Si/(B)/C/N-Hartstoffschichten für tribologische Anwendungen (Applicant Stafast, Herbert )
• PACVD-Synthese und Charakterisierung von Si/(B)/C/N-Hartstoffschichten für tribologische Anwendungen (Applicant Kroll, Peter )
• Precursorchemie von HfN, TaN, WNx und ähnlichen Metallnitriden in MOCVD und ALD-Prozessen für Gate-Metallisierungs- und Diffusions-Grenzschichten für CMOS-Bauteile (Applicant Fischer, Roland A. )
• Synthese anorganischer Materialien über die Gasphase: Interdisziplinäre Ansätze zu Entwicklung, Verständnis und Kontrolle von CVD-Verfahren (Applicant Broszeit, Erhard )
• Synthese anorganischer Materialien über die Gasphase: Interdisziplinäre Ansätze zu Entwicklung, Verständnis und Kontrolle von CVD-Verfahren (Applicant Riedel, Ralf )
• Untersuchung der CVD-Reaktionen bei der Bildung von a-Al2O3 als Diffusionsbarriere auf Superlegierungen (Applicant Neuschütz, Dieter )
• Untersuchung der CVD-Reaktionen bei der Bildung von a-Al2O3 als Diffusionsbarriere auf Superlegierungen (Applicant Janicka, Johannes )
• Untersuchung der CVD-Reaktionen bei der Bildung von a-Al2O3 als Diffusionsbarriere auf Superlegierungen (Applicant Kohse-Höinghaus, Katharina )
• Untersuchung der thermodynamischen Eigenschaften von CVD-Vorläufern (Applicant Atakan, Burak )

• Spokesperson: Professor Dr. Roland A. Fischer