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Aufeinander abgestimmte intramolekular adduktstabilisierte Alkoxid- und Amid-Prekursoren für MOCVD von oxidischen ferroelektrischen Schichtstrukturen
Antragsteller
Professor Dr.-Ing. Rainer Waser
Fachliche Zuordnung
Chemische und Thermische Verfahrenstechnik
Förderung
Förderung von 2001 bis 2007
Projektkennung
Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 5313794
Keine Zusammenfassung vorhanden
DFG-Verfahren
Schwerpunktprogramme
Beteiligte Person
Privatdozent Dr. Peter Ehrhart