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Aufeinander abgestimmte intramolekular adduktstabilisierte Alkoxid- und Amid-Prekursoren für MOCVD von oxidischen ferroelektrischen Schichtstrukturen

Subject Area Chemical and Thermal Process Engineering
Term from 2001 to 2007
Project identifier Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Project number 5313794
 
 

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