Röntgenographische Hochtemperaturschichtanalyse (HTXRD)

• Fachliche Zuordnung: Werkstofftechnik
• Förderung: Förderung in 2015
• Projektkennung: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 269147423

Das Gerät zur röntgenographischen Hochtemperaturschichtanalyse (HTXRD) dient der hochauflösenden Strukturanalytik im Bereich der Dünnfilmtechnologie, d.h., Beschichtungen und Oberflächenvergütungen auf diversen vorwiegend nichtmetallenen aber auch metallenen Substraten. Unter streifendem Einfallswinkel von Röntgenstrahlen werden Strukturen sowie mineralogische Phasenanteile in qualitativer und quantitativer Hinsicht charakterisiert. Zusätzlich werden mittels Heizkammer zeit- und temperaturabhängige Phasenbildungsprozesse und Umwandlungsphänomene aus dem glasig-amorphen Zustand in dünnen Schichten ermittelt. Weiterhin können Fragestellungen bezüglich der Anwendbarkeit der verwendeten Synthesetechniken aufgeklärt werden. Durch die quantitative Phasenanalyse und die Strukturverfeinerungsanalyse kristalliner Komponenten in dünnen Schichten wird dieses Gerät für vielfältige Aufgabenstellungen, auch hinsichtlich der Kompatibilität unterschiedlicher Materialien und Materialverbunde, eingesetzt. Infolge der guten gerätespezifischen mechanischen Präzision bei hohen Temperaturen (Ausdehnungskompensation) und unterschiedlichen Atmosphären werden Erkenntnisse zu In-situ-Phasenbildungsprozessen gewonnen. Somit können gezielt glasig-kristalline Funktionsschichten bezüglich ihrer Synthesebedingungen untersucht und spezifische Syntheseparameter angepasst werden.

• DFG-Verfahren: Forschungsgroßgeräte
• Großgeräte: Röntgenographische Hochtemperaturschichtanalyse (HTXRD)
• Gerätegruppe: 4011 Pulverdiffraktometer
• Antragstellende Institution: Technische Universität Clausthal
• Leiter: Professor Dr.-Ing. Joachim Deubener