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Röntgenographische Hochtemperaturschichtanalyse (HTXRD)

Subject Area Materials Engineering
Term Funded in 2015
Project identifier Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Project number 269147423
 
Das Gerät zur röntgenographischen Hochtemperaturschichtanalyse (HTXRD) dient der hochauflösenden Strukturanalytik im Bereich der Dünnfilmtechnologie, d.h., Beschichtungen und Oberflächenvergütungen auf diversen vorwiegend nichtmetallenen aber auch metallenen Substraten. Unter streifendem Einfallswinkel von Röntgenstrahlen werden Strukturen sowie mineralogische Phasenanteile in qualitativer und quantitativer Hinsicht charakterisiert. Zusätzlich werden mittels Heizkammer zeit- und temperaturabhängige Phasenbildungsprozesse und Umwandlungsphänomene aus dem glasig-amorphen Zustand in dünnen Schichten ermittelt. Weiterhin können Fragestellungen bezüglich der Anwendbarkeit der verwendeten Synthesetechniken aufgeklärt werden. Durch die quantitative Phasenanalyse und die Strukturverfeinerungsanalyse kristalliner Komponenten in dünnen Schichten wird dieses Gerät für vielfältige Aufgabenstellungen, auch hinsichtlich der Kompatibilität unterschiedlicher Materialien und Materialverbunde, eingesetzt. Infolge der guten gerätespezifischen mechanischen Präzision bei hohen Temperaturen (Ausdehnungskompensation) und unterschiedlichen Atmosphären werden Erkenntnisse zu In-situ-Phasenbildungsprozessen gewonnen. Somit können gezielt glasig-kristalline Funktionsschichten bezüglich ihrer Synthesebedingungen untersucht und spezifische Syntheseparameter angepasst werden.
DFG Programme Major Research Instrumentation
Major Instrumentation Röntgenographische Hochtemperaturschichtanalyse (HTXRD)
Instrumentation Group 4011 Pulverdiffraktometer
Applicant Institution Technische Universität Clausthal
 
 

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