UV-Maskenbelichter

• Fachliche Zuordnung: Informatik
• Förderung: Förderung von 2007 bis 2010
• Projektkennung: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 64960046

Ein neuer Maskenbelichter wird benötigt, um in der Fotolithografie für die Mikrosystemtechnik Anschluss an den Stand der Technik zu halten. Das vorhandene, 16 Jahre alte Gerät ist von seinen technischen Daten heute nicht mehr geeignet, um der Mikrosystem-Forschung zu genügen. Darüber hinaus führt der Verschleiß bei diesem täglich genutzten Kernsystem des ZMN zu einer weiteren Verschlechterung der Eigenschaften und es besteht akut die Gefahr des Totalausfalls infolge nicht mehr verfügbarer Ersatzteile, insbesondere in der Elektronik und Mechanik.Neue Forschungsprojekte zielen auf hochgenau Mikrosysteme an der Schnittstelle zur Nanotechnologie ab, so dass maximal mögliche Auflösung und Justagegenauigkeit zu gewährleisten sind, auch bei einer Vorder- zu Rückseitenbelichtung. Neue Polymersysteme erfordern die Selektion von UV-Wellenlängenbereichen, um die Materialien optimal einsetzen zu können. Darüber hinaus bietet die Nanoimprint-Technologie Möglichkeiten für das Erzeugen großflächiger, nanostrukturierter Oberflächen, wie sie bereits mit anderen, aufwändigeren Verfahren am ZMN gefertigt werden.Zu beachten ist, dass die Mechanik des Maskenbelichters auch für die Justage von Bondwafern genutzt wird. Ein Bondsystem der Fa. EVG steht für das Bonden zur Verfügung, die Genauigkeit des Prozesses wird aber durch die Vorjustage im Belichter definiert. Die zunehmende Miniaturisierung und steigende Komplexität der Mikrosysteme erfordert auch hier inzwischen sub-Mikrometer-Auflösung.

• DFG-Verfahren: Forschungsgroßgeräte
• Gerätegruppe: 0910 Geräte für Ionenimplantation und Halbleiterdotierung
• Antragstellende Institution: Technische Universität Ilmenau
• Leiter: Professor Dr.-Ing. Martin Hoffmann