Randabschluß und Sperreigenschaften des MOS-gesteuerten, bidirektionalen Schalters, MBS

• Applicant: Professor Dr. Anton Heuberger
• Subject Area: Electronic Semiconductors, Components and Circuits, Integrated Systems, Sensor Technology, Theoretical Electrical Engineering
• Term: from 1999 to 2002
• Project identifier: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Project number 5183200

Ziel des Forschungsvorhabens ist es, mit Hilfe der Graulithographie kontinuierlich gekrümmte Feldplattenstrukturen als Randabschluß für hochsperrende Leistungsbauelemente herzustellen. Das Verfahren der Grautonlithographie basiert auf einer Projektionsbelichtung mit einer speziellen Grautonmaske, mit der dreidimensionale Resiststrukturen erzeugt werden können. Durch geeignete Ätzverfahren können beliebig gekrümmte Lackstrukturen in z.B. dielektrische Oxidschichten übertragen werden. Das ISiT wird innerhalb des Projekts die Entwicklung der Grauton-Strukturerzeugung für Feldplattenanwendung sowie die Waferprozessierung durchführen und für MBS-Randabschlüsse bereitstellen. Die Verifikation dieser neuen Methode wird in Kooperation mit der Fa. Siemens an Bauelementewafer durchgeführt. Die TU Braunschweig übernimmt die Berechnung optimierter Feldplattenprofile, die am ISiT mittels Simulation in entsprechende Grautonmuster für die Lithographiemaske übersetzt werden. Des weiteren wird das ISiT die Technologie für die Herstellung von Grabenstrukturen als alternatives Konzept für einseitig sperrende Randabschlüsse bereitstellen.

• DFG Programme: Priority Programmes
• Subproject of: SPP 1038: Halbleiterbauelemente hoher Leistung
• Participating Person: Professor Dr. Roland Sittig