Abscheidung von BCN-Schichten auf Kunststoff mittels HF-PACVD unter Verwendung von metallorganischen Precursoren

• Antragsteller: Professor Dr.-Ing. Kyong-Tschong Rie
• Fachliche Zuordnung: Werkstofftechnik
• Förderung: Förderung von 1999 bis 2002
• Projektkennung: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 5160316

In dem beantragten Vorhaben soll die Abscheidung von BCN-Schichten auf Kunststoffsubstraten mittels HF-Plasma-CVD (Hochfrequenz-PACVD) bei niedrigen Beschichtungstemperaturen grundlegend untersucht werden. Zur Realisierung einer Temperatur unter 150 °C werden bororganische Spendermedien im Beschichtungsprozeß eingesetzt. Die Untersuchungen haben das Ziel, die Einflüsse der Beschichtungsparameter auf die Schichtbildung und das Schichtwachstum und damit auf die Eigenschaften der abgeschiedenen BCN-Schichten zu klären. Diese Ergebnisse dienen im weiteren der gezielten Schicht- und Prozeßoptimierung des HF-Plasma-CVD-Prozesses bei niedrigen Temperaturen. Zur Analyse des Plasmazustandes wird die optische Emmissionsspektroskopie als in situ-Plasmadiagnostik eingesetzt. Die abgeschiedenen BCN-Schichten werden sowohl hinsichtlich des Aufbaus der Struktur und der Zusammensetzung als auch hinsichtlich der technologischen Eigenschaften, wie Transparenz und Härte, charakterisiert. Die Korrelation der Beschichtungsparameter, der Schichteigenschaften und der Ergebnisse der Plasmadiagnostik führt zu einem tieferen Verständnis der Schichtbildungsmechanismen. Besonderes Interesse gilt hierbei dem Interface Schicht/Substrat, das die Haftfestigkeit der Schichten wesentlich bestimmt. Bei dem koreanischen Partner werden Kohlenstoffschichten im Plasma CVD abgeschieden. In Zusammenarbeit mit dem koreanischen Partner werden die Mechanismen der Schichthaftung analysiert und darauf aufbauend die Haftfestigkeit der Schichten optimiert.

• DFG-Verfahren: Sachbeihilfen
• Internationaler Bezug: Südkorea
• Beteiligte Personen: Dr.-Ing. Joachim Wöhle; Professor Dr. Jin Yu