Mechanismus der photochemischen Wasserstoffdesorption von der Silizium(111)-Oberfläche

• Antragsteller: Professor Dr. Peter Hess
• Fachliche Zuordnung: Physikalische Chemie
• Förderung: Förderung von 1999 bis 2002
• Projektkennung: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 5156612

Der Mechanismus und die Eigenschaften der photochemischen Wasserstoffdesorption von einer wasserstoffterminierten, idealen Siliziumoberfläche sollen mit einem F2-Laser bei 157 nm und einem ArF-Laser bei 193 nm untersucht werden. Die Desorption von atomarem und molekularem Wasserstoff wird als Funktion des Desorptionswinkels mit Hilfe der Flugzeitmassenspektrometrie bestimmt. Aus den Flugzeitverteilungen (Maxwell-Boltzmann-Verteilungen) ergibt sich die maximale und mittlere kinetische Energie der desorbierten Spezies. Die Terminierung der Oberfläche mit Deuterium liefert über den Isotopeneffekt wichtige Informationen zur ultraschnellen Desaktivierung des repulsiven elektronischen Anregungszustandes der Siliziumwasserstoffbindung durch resonante Substratanregung und die Desorption aus dem hochschwingungsangeregten Grundzustand. Die Desorptionsdy namik im Grundzustand wird mit Hilfe eines realistischen Potentials zwischen den Silizium- und Wasserstoffatomen simuliert und die kinetische Energie der Desorptionsprodukte bestimmt.

• DFG-Verfahren: Sachbeihilfen