Entspiegelung von optischen Oberflächen für den VUV-Spektralbereich

• Antragsteller: Dr. Frank Frost
• Fachliche Zuordnung: Experimentelle Physik der kondensierten Materie
• Förderung: Förderung von 2007 bis 2015
• Projektkennung: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 32645656

Ziel des Teilprojektes ist die Entwicklung eines Verfahrens, das die Herstellung nanostrukturierter antireflektierender Quarzglasoberflächen ermöglicht. Dabei soll die Nanostrukturierung der Quarzglasoberflächen vorrangig unter Verwendung selbstorganisierender Masken erfolgen. Bedingt durch Probleme bei der Abscheidung der GaSb- Maskenschichten konnten die Arbeiten dazu noch nicht abgeschlossen werden. Parallel dazu wurde ein alternativer Ansatz zur Direktstrukturierung von SiO2 mittels Ar- Ionenstrahlerosion untersucht. Durch diese Versuche konnte gezeigt werden, dass die Gradienten-Abhängigkeit der (lokalen) Erosionsrate der wichtigste Mechanismus bei der Ripple-Entwicklung auf diesen Oberflächen ist und im Wesentlichen auch für die Facettierung und das Coarsening der Ripple-Strukturen verantwortlich ist. Durch die geplante Untersuchungen zu Kr und Xe als Projektil-Ionen erwarten wir eine Verbesserung des Ordnungsgrades der Strukturen und erhalten zusätzlich, durch geeignete Wahl des Einfallswinkels, die Möglichkeit gezielt Einfluss auf die Form der Ripples (symmetrische bzw. asymmetrische Ripple-Flanken, Flankenwinkel) zu nehmen. Aus diesem Grund sollen beide Strukturierungsansätze in der zweiten Förderphase weiterverfolgt werden.

• DFG-Verfahren: Forschungsgruppen
• Teilprojekt zu: FOR 845: Selbstorganisierte Nanostrukturen durch niederenergetische lonenstrahlerosion