Musterbildung auf Si- und Ge-Oberflächen durch niederenergetische Ionenstrahlerosion

• Antragsteller: Dr. Frank Frost
• Fachliche Zuordnung: Experimentelle Physik der kondensierten Materie
• Förderung: Förderung von 2007 bis 2015
• Projektkennung: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 32645656

Dieses Teilprojekt, das die ehemaligen Teilprojekte 3 und 6 vereint, beschäftigt sich mit den experimentellen Grundlagen der ionenbeschussinduzierten Musterbildung auf Si- und Ge- Oberflächen unter Verwendung von Breitstrahlionenquellen sowie applikations-orientierten Fragen zur verbesserten Prozesskontrolle durch Kombination mit klassischen Lithographietechniken. Im Teil A wird, neben den bisher betrachteten primären Prozessparametern (z. B. Ionenenergie), der simultane Eintrag von Eisens im Mittelpunkt der Untersuchungen stehen. Die Musterbildung wird sowohl bei direkter Anwesenheit von Eisen als auch für vernachlässigbaren Eiseneintrag betrachtet. In enger Zusammenarbeit mit den anderen Teilprojekten soll das Verständnis soweit vorangetrieben werden, dass zukünftig ein definiert gesteuerter Eiseneinbau als zusätzlicher Freiheitsgrad zur Musterkontrolle verwendet werden kann. Die Ergebnisse bilden gleichzeitig die Datenbasis für den zweiten Schwerpunkt, der sich mit der kontrollierten Selbstorganisation durch gezielte Vorstrukturierung beschäftigt. Dazu sollen die bisherigen Arbeiten fortgesetzt und ausgebaut werden. Zusätzlich aufgenommen werden Untersuchungen zu unterschiedlichen Arten der Probenmanipulation während der Ionenstrahlerosion sowie Arbeiten an „stochastisch“ vorstrukturierten Oberflächen.

• DFG-Verfahren: Forschungsgruppen
• Teilprojekt zu: FOR 845: Selbstorganisierte Nanostrukturen durch niederenergetische lonenstrahlerosion
• Beteiligte Person: Professor Dr. Bernd Rauschenbach