Fabrikationscluster mit Molekularstrahlepitaxie, Gloveboxsystem und Rastersondenlithographie

• Fachliche Zuordnung: Materialwissenschaft
• Förderung: Förderung in 2021
• Projektkennung: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 455328906

Um die Auswirkung des Einschlusses von Phasenwechselmaterialien in nanometer-große Strukturen auf die Eigenschaften dieser Substanzen untersuchen, ist es entscheidend in der Lage zu sein, derartige Proben auf sauberste Weise und mit genauer Kontrolle der Einschlussverhältnisse herstellen zu können.Für die Herstellung derartiger nanostrukturierter Bauelemente müssen wir eine integrierte Fabrikationsanlage um ein Ultra-hoch-Vakuum-System zur Molekularstrahlepitaxie errichten. Mit Hilfe dieser zentralen Komponente unserer Anlage können extrem dünne Filme aus Phasenwechselmaterialien unter reinsten Bedingungen und mit atomarer Präzision erzeugt werden.Um das Material auch während der lateralen Nanostrukturierung derartiger Dünnfilme hin zu dreidimensional begrenzten Nanobauteilen nicht zu kontaminieren, wird das Molekularstrahlepitaxie-System an einen mit Argongas gefüllten Handschuhkasten angeschlossen. In dieser inerten Atmosphäre wird die Strukturierung mit einem Nanolithographie-Werkzeug unter Verwendung einer thermischen Rastersonde durchgeführt. Das Lithografiewerkzeug befindet sich in einem speziellen Abteil des Handschuhkastens, das den speziellen Anforderungen des Nanolithografieprozesses an die Schwingungsisolation gerecht wird.

• DFG-Verfahren: Forschungsgroßgeräte
• Großgeräte: Fabrikationscluster mit Molekularstrahlepitaxie, Gloveboxsystem und Rastersondenlithographie
• Gerätegruppe: 0920 Atom- und Molekularstrahl-Apparaturen
• Antragstellende Institution: Universität Münster
• Leiter: Professor Dr. Martin Salinga