Nanolithographie-System

• Fachliche Zuordnung: Physik der kondensierten Materie
• Förderung: Förderung in 2020
• Projektkennung: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 441219355

Ziel des Vorhabens ist der Aufbau einer vielfältig und flexibel nutzbaren Infrastruktur für die Nanolithographie am Institut für Physik der Universität Rostock. Haupteinsatzgebiet des zu beschaffenden Systems ist die Kombination von verschiedenen Nanostrukturen mit zweidimensionalen Kristallen und Van-der-Waals-Heterostrukturen. Diese neuartigen Materialsysteme besitzen faszinierende elektronische und optische Eigenschaften. Der Zugang zu Nanolithographie wird es uns ermöglichen, die Eigenschaften dieser Systeme maßzuschneidern, beginnend beim Schichtwachstum durch die Definition von Wachstumskeimen über die Kontrolle der Licht-Materie-Wechselwirkung durch die gezielte Aufbringung plasmonischer Nano-Antennen bis hin zur Integration in Bauelement-Strukturen durch die Definition nanostrukturierter Kontakte. Für unsere geplanten Forschungsprojekte benötigen wir eine flexible Infrastruktur zur Definition von Strukturen auf stark unterschiedlichen Längenskalen. Für plasmonische Nano-Antennen, nanostrukturierte Kontakte an zweidimensionale Kristalle, Wachstumskeim-Partikel und Strukturen zur Erzeugung lokaler Verspannungen ist einerseits eine laterale Auflösung von 30 nm oder weniger erforderlich. Andererseits benötigen wir die Möglichkeit, makroskopische Kontakt-Regionen und Marker-Strukturen zu definieren, die Strukturgrößen im Bereich von 10 Mikrometer bis hin zu Millimetern aufweisen und großflächig auf einem Chip aufgebracht werden müssen.Zusätzlich erfordern unsere geplanten Anwendungen eine präzise Ausrichtung der mittels Lithographie definierten Strukturen an bereits auf einem Substrat vorhandenen zweidimensionalen Kristallen und Van-der-Waals-Heterostrukturen, die aufgrund ihrer Herstellung eine individuelle Form haben. Das Lithographie-System muss also eine hochauflösende Abbildung dieser Strukturen ermöglichen, die vom Lithographie-Prozess entkoppelt ist.

• DFG-Verfahren: Forschungsgroßgeräte
• Großgeräte: Nanolithographie-System
• Gerätegruppe: 0910 Geräte für Ionenimplantation und Halbleiterdotierung
• Antragstellende Institution: Universität Rostock
• Leiter: Professor Dr. Tobias Korn