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Projekt
Mehrkammer-Elektronenstrahlverdampfersystem
Fachliche Zuordnung
Physik der kondensierten Materie
Förderung
Förderung in 2019
Projektkennung
Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 427615366
Die Herstellung von Bauelementen basierend auf III-V Halbleitermaterialien erfordert die elektrische Kontaktierung von n- und p-dotierten Bereichen. Um elektrische Verluste zu vermeiden und das Funktionieren der Bauelemente zu ermöglichen sind elektrischen Kontakte mit ohmscher Charakteristik notwendig. Diese bestehen aus Schichtabfolgen von elektrisch aktiven Metallen, Haftvermittlern sowie sehr guten elektrischen Leitern. Für n-dotierte Arsenide werden dazu die Abfolge Ni/Au/Ge, für p-dotierte Ge/Pd, für n-dotierte Nitride z.B. Ti/Al/{Pt,Ti,Ni,Mo}/Au, für p-dotierte Nitride Ni/Au und für n-dotierte Phosphide Ge/Au benötigt. Das erste Material wird dabei als Dotiermaterial verwendet und wird durch die folgenden Schichten geschützt bzw. durch diese die Haftfähigkeit bzw. elektrische Leitfähigkeit erhöht. Damit die einzelnen Schichten nicht oxidieren bzw. verunreinigt werden und somit ihre Eigenschaften verlieren, ist es notwendig, dass die Schichtabfolge unter UHV-Bedingungen abgeschieden wird. Dazu ist ein UHV-Mehrkammersystem mit Schleuse notwendig, in der die einzelnen Materialien abhängig von ihrem Schmelzpunkt und Dampfdruck mittels Elektronenstrahlanordnung zum Verdampfen gebracht werden. Durch Erweiterung der Anlage auf weitere Materialien wie Cs, Ge und Si sowie die Möglichkeit zur gezielten Gaszufuhr kann das Anwendungsspektrum der Anlage enorm erweitert werden und somit anderen Zwecken dienen, wie z.B. Herstellung von Oberflächen mit negativen Elektronenaffinität für Photokathoden, dünne oxidische Schichten für Antireflexschichten, oder dünne epitaktische Unterlagen auf der Basis von dünnen Ge oder Si.
DFG-Verfahren
Forschungsgroßgeräte
Großgeräte
Mehrkammer-Elektronenstrahlverdampfersystem
Gerätegruppe
8330 Vakuumbedampfungsanlagen und -präparieranlagen für Elektronenmikroskopie
Antragstellende Institution
Technische Universität Clausthal
