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Projekt
Hochleistungs-Höchstauflösungs-Diffraktometer
Fachliche Zuordnung
Materialwissenschaft
Förderung
Förderung in 2019
Projektkennung
Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 422745693
Zur strukturellen Charakterisierung epitaktisch gewachsener III-V Verbindungshalbleiter, piezoelektrischer Schichten (LGS- Familie, etc.) sowie dünner Filme (Metalle, Keramiken, Gläser) wird ein Hochleistungs-Höchstauflösungs-Diffraktometer als Teil der Grundausstattung benötigt. Bei diesen Materialien sind grundlegende Messungen zur Bestimmung von Gitterparametern, Verspannungsverteilungen, Texturen und Phasenverteilungen unabdingbar, ohne deren Ergebnisse die weitere Forschungsarbeit stark eingeschränkt bzw. im Fall epitaktischer Schichten unmöglich wird. Zur Durchführung dieser Messungen v.a. in Bezug auf sehr dünne, monokristalline oder epitaktisch gewachsene Schichten müssen Methoden wie hochauflösende Röntgenbeugung, Messungen im reziproken Raum inkl. Mapping, streifender Einfall (Weitwinkel- und Kleinwinkelstreuung) und Reflektometrie benutzt werden. Die an der TU-Clausthal vorhandenen Diffraktometer sind vom Aufbau her nur für Pulvergeometrien geeignet oder besitzen maximal 2 Achsen und können diese Methoden nicht bieten, da hierzu ein höchstauflösendes 5-Achsen Horizontalgoniometer mit optimierten Optiken benötigt wird. Zudem wird für in-plane Messungen und zur Mikrostrukturanalyse von Verspannungs- und Phasenverteilungen bzw. ortsaufgelöster Charakterisierung inhomogener Proben eine Punktfokusoptik benötigt. Da die Verspannungszustände stark temperaturabhängig sind, soll desweiteren eine Heizkammer, die auch unter Formiergas oder Inertgas betrieben werden kann, installiert werden, damit die Temperaturabhängigkeit mikrostruktureller Änderungen untersucht werden kann.
DFG-Verfahren
Forschungsgroßgeräte
Großgeräte
Hochleistungs-Höchstauflösungs-Diffraktometer
Gerätegruppe
4030 Röntgenfluoreszenz-Spektrometer
Antragstellende Institution
Technische Universität Clausthal
