ICP-RIE-Plasmaätzanlage

• Fachliche Zuordnung: Teilchen, Kerne und Felder
• Förderung: Förderung in 2018
• Projektkennung: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 414743279

Die ICP-RIE-Plasmaätzanlage soll vorrangig zur Herstellung von metallischen magnetischen Kalorimetern (MMCs) und supraleitenden Quanteninterferenzdetektoren (SQUIDs) verwendet werden. Darüber hinaus soll die Ätzanlage für die Entwicklung und Etablierung von neuen Mikrofabrikationsprozessen eingesetzt werden, um einerseits bereits erfolgreich implementierte Prozesse zur Herstellung metallischer magnetischer Kalorimeter und supraleitender Quanteninterferenzdetektoren zuverlässiger und reproduzierbarer zu machen und damit letztlich die Ausbeute bei der Herstellung dieser Bauelemente zu steigern. Andererseits sollen die zur Verfügung stehenden Fertigungsmöglichkeiten dahingehend erweitert werden, dass neuartige Detektorkonzepte realisierbar werden. Das Gerät soll konkret zum Ätzen verschiedener Metalle, unter anderem Niob, Aluminium und Gold, von Dielektrika unter anderem Siliziumdioxid und Siliziumnitrid, und insbesondere zum Ätzen von Silizium eingesetzt werden. Die Dicke der zu ätzenden Schichten reichen hierbei von wenigen Nanometern bis hin zu einigen Mikrometern bzw. speziell im Fall von Silizium bis hin zu einigen hundert Mikrometern.

• DFG-Verfahren: Forschungsgroßgeräte
• Großgeräte: ICP-RIE-Plasmaätzanlage
• Gerätegruppe: 0920 Atom- und Molekularstrahl-Apparaturen
• Antragstellende Institution: Ruprecht-Karls-Universität Heidelberg
• Leiter: Professor Dr. Christian Walter Dietrich Enss