Atomlagenbeschichtungsanlage (Teilfinanzierung)

• Fachliche Zuordnung: Optik, Quantenoptik und Physik der Atome, Moleküle und Plasmen
• Förderung: Förderung in 2017
• Projektkennung: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 387845252

Neue Anwendungsfelder in der Nanooptik und Plasmonik erfordern die konformale Beschichtung komplexer zwei- und dreidimensionaler Komponenten mit dichten und geschlossenen dielektrischen und metallischen Filmen mit präzise kontrollierbarer Dicke. Die klassischen Beschichtungsmethoden wie thermisches Verdampfen oder Kathodenzerstäubung eigenen sich für diese Anwendungen nur sehr bedingt, da sie nicht in der Lage sind konformal zu beschichten, also homogen über die gesamte Oberfläche inklusive abgeschatteter Bereiche. Bei der Atomlagendeposition werden einzelne Monolagen des Materials via gasförmiger Ausgangssubstanzen auf der Probe aufgewachsen. Diese Substanzen können die Probe vollständig durchdringen und tragen daher auch Material in abgeschatteten Bereichen auf. Aufgrund der atomlagenweisen Beschichtung ist eine höchstpräzise Schichtdickenkontrolle prozessimmanent gegeben. Neben Dielektrika lassen sich auch Metalle und Metallverbindungen aufbringen. Diese neuartigen Materialfilme erlauben uns die Strukturierung von komplexen zwei- und dreidimensionalen Mikro- und Nanostrukturen mit bisher unerreichter Präzision und ermöglichen völlig neue Abbildungssyteme und Optiken die von höchstem Interesse sind und dem Standort Stuttgart einen gewichtigen Standortvorteil verschaffen.

• DFG-Verfahren: Forschungsgroßgeräte
• Großgeräte: Atomlagenbeschichtungsanlage (Teilfinanzierung)
• Gerätegruppe: 0920 Atom- und Molekularstrahl-Apparaturen
• Antragstellende Institution: Universität Stuttgart
• Leiter: Professor Dr. Harald Giessen