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Supraleitung in hochdotierten Gruppe IV Halbleitern

Applicant Dr. Viton Heera
Subject Area Experimental Condensed Matter Physics
Term from 2010 to 2014
Project identifier Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Project number 177584490
 
Kürzlich konnte gezeigt werden, dass neben Diamant auch die technologisch relevanten Gruppe-IV-Halbleiter Si und Ge im extrem hochdotierten Zustand supraleitend werden. Den Antragstellern ist es erstmalig gelungen, supraleitfähige Ge-Schichten in einem zu Fertigungsverfahren der Mikroelektronik kompatiblen Dotierprozess, bestehend aus Ga-Ionenimplantation und Blitzlampenausheilung, herzustellen. Die Struktur und die elektronischen Eigenschaften der supraleitfähigen Ge:Ga-Schichten sollen in Abhängigkeit von Dotierung, Schichtdicke und Ausheilparametern systematisch untersucht werden. An Nanostrukturen soll der Einfluss von Größen- und Randeffekten auf die Transporteigenschaften studiert werden. Analoge Untersuchungen sind für weitere Halbleiter-Akzeptor-Kombinationen wie Ge:Al, Si:Ga, Si:B, Si:Al geplant. Die Untersuchungen sollen in einem weiten Temperatur- (10 mK < T < 300 K) und Magnetfeldbereich (10 μT < B < 70 T) durchgeführt werden.
DFG Programme Research Grants
Participating Person Dr. Thomas Herrmannsdörfer
 
 

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