Herstellung und Untersuchung epitaktischer Metall-Isolator Resonant-Tunneling-Bauelemente für die Silizium-Nanoelektronik

Resonant-Tunneling (RT)-Bauelemente, die auf Metall-IsolatorSilizium-Schichtsystemen basieren, gehören aufgrund ihrer elektrischen Eigenschaften und ihrer potentiellen Kompatibilität zur konventionellen Siliziumtechnologie zu den aussichtsreichsten Grundbausteinen einer zukünftigen Nanoelektronik. Ziel des Forschungsvorhabens ist die Realisierung und theoretische Beschreibung solcher RT-Bauelemente. In der ersten Projektperiode wurden wesentliche Fortschritte bei der theoretischen Modellierung von RT-Dioden, dem Wachstum und der elektrischen Charakterisierung von CaF2-Schichten, sowie ihrer Modifizierung für die Herstellung von CoSi2/CaF2-Vielfachschichten erzielt. Die weiteren Ziele sind: (1) Die Entwicklung und Implementierung eines geeigneten MBE-Wachstumsverfahrens zur Herstellung der erforderlichen CoSi2/CaF2-Mehrfachschichten. (2) Die Herstellung, Charakterisierung und Optimierung von RT-Dioden und -Transistoren in diesem Materialsystem und ihre Bewertung als Schaltelemente für die Nanoelektronik. (3) Die theoretische und experimentelle Analyse alternativer Materialsysteme.

DFG Programme Sachbeihilfen

Beteiligte Personen Professor Dr. Peter Vogl; Professor Dr. Joachim Wollschläger