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Aufeinander abgestimmte intramolekular adduktstabilisierte Alkoxid- und Amid-Prekursoren für MOCVD von oxidischen ferroelektrischen Schichtstrukturen

Fachliche Zuordnung Chemische und Thermische Verfahrenstechnik
Förderung Förderung von 2001 bis 2007
Projektkennung Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 5313794
 
 

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