Hochauflösendes Rasterelektronenmikroskop

• Subject Area: Materials Science
• Term: Funded in 2007
• Project identifier: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Project number 52896289

Bei dem am Lehrstuhl vorhandenen Rasterelektronenmikroskop Philips XL30 handele es sich um das am stärksten ausgelastete Großgerät am Institut für Werkstofftechnik. Neben den gerätespezifischen Standardaufgaben, wie Bruchflächenbewertungen und chemische Analysen mittels energiedispersiver Röntgenspektroskopie (EDS) werde zunehmend die EBSD-Technik (electron back-scattered diffraction) zur ortsaufgelösten Bestimmung der Kristallorientierungsverteilung eingesetzt. Diese Technik sei sehr zeitaufwändig, so dass die Kapazitätsgrenze des vorhandenen Rasterelektronenmikroskopes mittlerweile erreicht sei. Gravierende Kapazitätsengpässe seien zu erwarten, wenn ein von der DFG jüngst genehmigtes Forschungsvorhaben begonnen werde, dessen Arbeitsprogramm in-situ-Materialprüfungen im Rasterelektronenmikroskop beinhalte.Die begrenzte Auflösung der am Institut für Werkstofftechnik vorhandenen Rasterelektronenmikroskope stellte von vorneherein eine große Einschränkung bei der Analyse von Hochtemperaturkorrosionsprodukten, wie Oxidschichten und inneren Ausscheidungen, dar. Insbesondere für eine Reihe geplanter und z. T. bereits beantragter Projekte zum Themenkomplex Hochtemperaturkorrosion werde die technische Ausstattung des angemeldeten Gerätes eine wesentliche Verbesserung und Erleichterung in der topographischen, strukturellen und chemischen Analyse der Korrosionsprodukte in Verbindung mit der Substratmikrostruktur ermöglichen. Dabei werde nicht zuletzt eine gemeinsame Forschungsinitiative des Lehrstuhls für Materialkunde und Werkstoffprüfung und dem Lehrstuhl für Oberflächen- und Werkstofftechnologie (LOT) profitieren, in der die Applikation einer funktionellen Bornitridschicht ein online-Monitoring von Oberflächenschädigungen bei hohen Temperaturen ermöglichen solle.

• DFG Programme: Major Research Instrumentation
• Instrumentation Group: 5120 Rasterelektronenmikroskope (REM)
• Applicant Institution: Universität Siegen
• Leader: Professor Dr. Xin Jiang