Nukleation and properties of doped cubic boron nitride thin films and its alloys

• Applicant: Professor Dr. Carsten Ronning
• Subject Area: Condensed Matter Physics
• Term: from 1999 to 2003
• Project identifier: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Project number 5214036

Die massenselektierte Ionenstrahldeposition (MSIBD) soll zur Untersuchung des Wachstums und der Eigenschaften ternärer kubischer Bornitridsysteme (c-BN:X) angewendet werden. Die MSIBD Methode erlaubt eine kontrollierte Dotierung der BN-Schichten bis hin zur Legierungsbildung. Der Einfluß isoelektronischer Fremdatome auf die Phasenbildung und die Schichteigenschaften soll an Ga-, In-, P- und As-dotierten c-BN Schichten und ternären GaxB1-xN, InxB1-xN, BN1-xAsx und BN1-xAsx Legierungen untersucht werden. Ziele sind die Minimierung innerer Spannungen bei dotierten c-BN Schichten und die Bestimmung der grundlegenden strukturellen, elektrischen und optischen Eigenschaften der genannten ternären Legierungen. Es soll geklärt werden, ob durch eine Dotierung oder durch Nukleation auf geeigneten Pufferschichten (GaN, AlN, Li3N) die Bildung der unerwünschten hBN Zwischenschicht vermieden werden kann. c-BN Schichten sollen während des Wachstums mit möglicherweise elektrisch aktiven Fremdatomen wie Li, Na, Mg, Zn und S dotiert und deren elektrische Eigenschaften charakterisiert werden. Ternäre B-C-N Schichten und gezielt dotierte BN-Schichten sollen zu vergleichenden Messungen für andere Gruppen innerhalb der Forschungsinitiative hergestellt werden.

• DFG Programme: Research Grants
• Participating Person: Professor Dr. Hans Christian Hofsäss