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Projekt
Nanoimprint Lithographie System
Fachliche Zuordnung
Produktionstechnik
Systemtechnik
Systemtechnik
Förderung
Förderung in 2021
Projektkennung
Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 459053265
Das IWE 1 der RWTH Aachen beantragt ein Nanoimprint Lithography System als Ergänzung der Nanofabrikationseinrichtungen des Institutes und für einen derzeit im Ausbau befindlichen, gemeinsam genutzten Reinraum (Central Laboratory for Micro- and Nanotechnology, CMNT). Zurzeit können wir für einfache Nanostrukturen eine Elektronenstrahl-Lithographie unseres Nachbarinstituts nutzen. Jedoch ist eine Strukturierung von ganzen Wafern mit gemischten Mikro- und Nanostrukturen aufgrund der langen Schreibzeiten nicht praktikabel. In unseren Forschungsarbeiten an früheren Instituten nutzten wir schon lange die Nanoimprint Lithographie als Schlüsseltechnologie zur schnellen waferskaligen Herstellung von Nanostrukturen. Dies schlägt sich immer noch in den aktuellen Projekten des IWE 1 nieder. Zur Kompatibilität mit weiteren Anlagen im CMNT ist eine Auslegung des Nanoimprint Lithography Systems auf 8 Zoll Wafergrößen zwingend notwendig. Die Anlage soll eine strukturgetreue Replikation von Nanostrukturen bis zu 20 nm ermöglichen (UV Nanoimprint) und zudem eine direkte Strukturierung von thermisch aushärtbaren Polymeren und 2D-Nanomaterial/Polymerkompositen ermöglichen. Dies erlaubt einen breiten Einsatz der Nanotechnologie auch im Rahmen des CMNT und im Graphen & 2D Material Center der RWTH Aachen.
DFG-Verfahren
Forschungsgroßgeräte
Großgeräte
Nanoimprint Lithographie System
Gerätegruppe
0910 Geräte für Ionenimplantation und Halbleiterdotierung
Antragstellende Institution
Rheinisch-Westfälische Technische Hochschule Aachen
