Asphärische Linsen finden in der industriellen Praxis umfangreiche und vielseitige Anwendungen. Allerdings müssen Absolutverfahren entwickelt werden, die es erlauben, die Oberflächenabweichungen des Prüflings von den systematischen Wellenaberrationen des Interferometers zu trennen, wenn man z. B. den gesteigerten Genauigkeitsanforderungen der Lithographie-Optiken gerecht werden will. Dies ist ein bisher weitgehend ungelöstes Problem, so daß es einen dringenden Bedarf zur Erforschung solcher Absolutverfahren gibt. Hier wird vorgeschlagen, zum einen das bereits bekannte Rotationsmittelungsverfahren durch Hinzunahme einer neuartigen Radialshear-Position zu vervollständigen, und zum anderen diese Position zur Bestimmung der Differenzenquotienten der Prüflingsabweichungen längs orthogonaler Richtungen zu verwenden. Beide Verfahren beruhen sowohl auf Differenzmessungen, als auch auf speziellen Bewegungen des Prüflings relativ zum Interferometer. Die Verwendung eines Zwei-Wellenfronten-DOE mit sehr ähnlichen Wellenfronten macht dabei eine spezielle mechanische Streifenmaske als Blende erforderlich. Damit stehen zwei Absolutverfahren zur Verfügung, deren Vergleich untereinander bzw. mit bereits existierenden Verfahren Aufschluß über die tatsächlich erreichten Absolutgenauigkeiten gibt.
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