Ionenstrahl-Nanolithographie-System

• Subject Area: Condensed Matter Physics
• Term: Funded in 2015
• Project identifier: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Project number 282779622

Die Neuanschaffung soll die bisher am Institut bestehende über 25 Jahre alte Elektronenstrahllithographieanlage ersetzen. Diese war altersbedingt nicht mehr wirtschaftlich zu betreiben, die Aufwendungen für Instandhaltung und die Ausfallzeiten sind in den letzten Jahren kontinuierlich gestiegen. Mittlerweile ist die Anlage nicht mehr einsatzbereit, verschrottet und entfernt. Eine Wiederinstandsetzung war wirtschaftlich nicht mehr möglich.Nun soll eine moderne und wettbewerbsfähige Anlage beschafft werden. Aus diesem Grund fällt die Wahl auf ein Lithographiecluster, das sowohl Elektronen- wie auch Ionenstrahllithographie ermöglicht. Diese Gerätekombination sorgt für eine immense Erweiterung der Nanofabrikationsmöglichkeiten, die am Institut zur Verfügung stehen, und sichert so langfristig die internationale wissenschaftliche Konkurrenzfähigkeit der beteiligten Forscher.

• DFG Programme: Major Research Instrumentation
• Major Instrumentation: Ionenstrahl-Nanolithographie-System
• Instrumentation Group: 0910 Geräte für Ionenimplantation und Halbleiterdotierung
• Applicant Institution: Universität Stuttgart
• Leader: Professor Dr. Harald Giessen