Time resolved measurement of film growth in high power plasmas using variable ion energy distribution functions
(C03)
Subject Area
Optics, Quantum Optics and Physics of Atoms, Molecules and Plasmas
Term
from 2010 to 2018
Project identifier
Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Project number 138690629
Hochwertige Oxide und Nitride werden mittels Magnetronplasmen und kontrolliertem Ionenbeschuss abgeschieden. In dem Projekt ist es geplant, diese ionen-induzierte Strukturbildung genauer zu untersuchen. Dazu wird die Energieverteilung der aus dem Plasma auftreffenden Ionen durch eine variable Steuerung der Substratvorspanung maßgeschneidert und deren Einfluss am Modellsystem Al2O3 untersucht. Die Ionenenergieverteilungen werden mit einem speziellen Gegenfeldanalysator und einem Plasmamonitor beobachtet sowie die Schichten mit in-situ Infrarotspektroskopie und Ellipsometrie sowie ex-situ Röntgenbeugung.
DFG Programme
CRC/Transregios
